Plasma采用获得专利的高规格等离子放射检测仪(PED)传感技术，并通过智能微处理器平台提供无与伦比的稳定性和选择性，可以对纯Ar和/或He中的N2进行持续监测。
Plasma将高稳定性能和灵活性集于一身，可以为深冷空分和气体装瓶应用中的过程控制和质量检验需求提供最佳分析解决方案。
Plasma在标准或高纯设置模式下均提供三种测量范围，而且自动量程切换功能可以实现最佳输出分辨率，从而提供完美契合应用需求的灵活解决方案。
此外，Plasma仅需零维护，设计操作更方便，而且提供了RS232 ASCII（选配）。因此，这种分析解决方案可以在各个层次上使用。
当您在低温空气分离或气体装瓶厂工作，生产Ar或进行He液化时，您需要一个能够对N2或痕量杂质进行最可靠，最准确的连续监测的分析仪。轻松配置合适的设备并选择满足您特定需求的设备也很重要；包括可以同时检测Ar或He或两种气流的灵活性。无论您的应用程序需要什么，您还需要一种能够降低持续成本并通过选择的通信平台提供全面的远程交互的设备。而且我们认为您不必妥协。
等离子体是Ar和/或He中最稳定的连续N2和痕量N2杂质测量分析仪。通过简单的设置（包括三个范围选项的配置），该分析仪可以满足您的特定应用需求。等离子还通过其故障警报和接触警报功能增强了安全性并减少了停机时间的可能性。
Plasma提供了令人印象深刻的可承受性，以匹配其准确性和测量稳定性，而无需持续的维护要求。使用网络连接与该分析仪进行远程交互的功能通过允许进行异地故障排除和参数检查，可提供额外的价值。这大大降低了终生拥有成本，因此您可以利用可观的节省
在同类设备上。
您可以轻松找到适合应用需求的仕富梅产品。
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Plasma可以为深冷空分和气体装瓶应用提供灵敏和可靠的PED氮气监测。
Plasma满足安全标准IEC 61010-1: Ed 3和低压指令、EMC以及其他相关指令。
Plasma可以提供0-1ppm、0-10ppm和0-100pmm量程范围内的氮气浓度读数，也可以根据客户要求提供更高量程的型号。
电子流量控制系统可以确保Plasma具有较少的流量消耗和最佳的读数稳定性。
Plasma专为氩气和/或氦气中微量级氮气的持续监测而设计。
| Gas | 测量 |
|---|---|
| 氮 (N₂) | ppm |
Technologies
符合IEC 61010-1：Ed 3的电气安全
安装类别II IEC 60664-1污染等级2 IEC 60664-1
符合低压，EMC和适用的指令
461毫米（18.1英寸）宽x 132毫米（5.1英寸）高x 484毫米（19英寸）深
15公斤（33磅）
“要获得深入的规范，您将需要下载我们的技术数据表，其中包括有关技术，性能，操作环境，样品条件和合规性的信息，以及技术图纸和顶级收益和应用。”
“我们的资源包为您提供了所需的所有分析仪信息，包括产品手册和操作手册。了解Plasma如何提高您的工艺性能。”
等离子手册和手册包含有关功能和优点的更多信息，并说明了如何安装和操作分析仪。立即下载。
Plasma精确且高度稳定，是ASU工厂应用的理想选择。
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